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芯片巨头美光:成功绕过了EUV光刻技术 - v2ra小站

芯片巨头美光:成功绕过了EUV光刻技术

本周美光宣布,采用全球最先进1β(1-beta)制造工艺的DRAM内存芯片已经送样给部分手机制造商、芯片平台合作伙伴进行验证,并做好了量产准备。 1β工艺可将能效提高约15%,存储密度提升35%以上,单颗裸片(Die)容量...

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